烽火通信采用自主(zhu)知识产权(quan)的 PCVD(等离子体化学(xue)气相(xiang)沉积(ji))设备(bei)和工艺技(ji)术制作掺(chan)氟毛细(xi)(xi)管,毛细(xi)(xi)管的折(zhe)射率分布控制精确,重复性(xing)好且具备(bei)优良的光学(xue)性(xing)能(neng)和精确的几何尺寸。可根据客户(hu)需(xu)求提(ti)供掺(chan)氟和深(shen)掺(chan)氟毛细(xi)(xi)管,且毛细(xi)(xi)管的结构有(you)含纯(chun)硅层(ceng)及掺(chan)氟层(ceng)的和仅含掺(chan)氟层(ceng)两种,毛细(xi)(xi)管长度可根据需(xu)求定制。