烽火通信采用自主(zhu)知识产权(quan)的(de) PCVD(等(deng)离子体化学气相(xiang)沉积)设备(bei)和工艺技术制作(zuo)掺(chan)(chan)氟毛细(xi)(xi)管,毛细(xi)(xi)管的(de)折射率(lv)分(fen)布(bu)控(kong)制精(jing)确,重复性好且具备(bei)优良(liang)的(de)光(guang)学性能和精(jing)确的(de)几(ji)何尺(chi)寸(cun)。可(ke)根据(ju)客户需(xu)求提供(gong)掺(chan)(chan)氟和深掺(chan)(chan)氟毛细(xi)(xi)管,且毛细(xi)(xi)管的(de)结构(gou)有含纯硅层及掺(chan)(chan)氟层的(de)和仅含掺(chan)(chan)氟层两种,毛细(xi)(xi)管长度可(ke)根据(ju)需(xu)求定(ding)制。